纵向应力法制作双波长布喇格光栅

摘要：

介绍了一种用一个均匀相位模板制作双波长布喇格光栅的方法;对这种方法制作的双波长布喇格光栅进行了理论分析,用矩阵分析法,对其进行了数值模拟.采用了移动曝光技术,通过调节所加应力的大小、光栅长度及曝光次数可以控制两个布喇格波长的间隔和反射率;写制了一个双波长光栅,两个透射峰均为19.5 dB,两个布喇格波长的间隔为0.78 nm.

关键词：导波光学、布喇格光栅、双波长布喇格光栅、矩阵分析法

所属期刊栏目：22

分类号：TN253(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2002AA313110;建设部信息化科研项目01-4-048

在线出版日期：2005-03-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：98-101