几种变反射率腔镜边界衍射光场强度的理论分析与比较
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1007-5461.2000.02.002

几种变反射率腔镜边界衍射光场强度的理论分析与比较

引用
根据边界衍射波理论,对反射率呈高斯类函数(n=2)、抛物类函数(n=1, 2) 以及线性坡度递减分布的腔镜的边界衍射光场作了分析和比较,结果表明了反射率呈高斯类函数分布的腔镜能更有效地减弱边界衍射光场,获得高质量的准几何光学近似的基模光场。

边界衍射光场、变反射率腔镜、高斯类函数分布

17

O41;TN2

2004-03-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

108-112

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

量子电子学报

1007-5461

34-1163/TN

17

2000,17(2)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn