10.3321/j.issn:1000-0992.2003.02.008
铅基压电薄膜材料的制备、微结构与性能
随着微电子技术的发展和高度集成化的趋势,压电薄膜材料愈来愈受到人们的重视.本文对铅基类压电薄膜材料的研究进展进行了评述,主要讨论了:(1)两种主要制备方法:脉冲激光熔融法(PLD)和溶胶凝胶法(Sol-Gel);(2)压电薄膜微观结构的表征,如畴结构,薄膜材料与大块材料的差别等;(3)压电薄膜材料力学、电学及相互耦合性能的评价参数,薄膜处理过程的相变和残余应力和破坏特征.最后提出了人们可能关注的一些问题.
铅基压电薄膜、脉冲激光法、溶胶凝胶法、微观结构、性能
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O3(力学)
国家自然科学基金10072052
2003-12-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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