对痕量甲醛气体敏感的SnO2-NiO纳米材料的X射线光电子谱研究

摘要：

本文研究了对痕量甲醛气体敏感的SnO2-NiO纳米材料的X射线光电子谱(XPS).通过对XPS O1s和Sn3d5/2分峰的分析证实了SnO2-NiO纳米材料是氧化态.在SnO2-NiO纳米材料的表面观察到了SnO2、SnO、NiO和Ni2O3,而以SnO2为主要成分,NiO含量很低.由于掺杂了低浓度NiO使SnO2-NiO纳米材料表面吸附氧的数量极大地增加,从而增加了材料表面反应活性点,进而使SnO2-NiO纳米材料对痕量甲醛(HCHO)气体的气敏性能大大提高.

关键词：X射线光电子谱、SnO2-NiO纳米材料、甲醛气体、吸附氧

所属期刊栏目：43

分类号：TN389(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金资助项目90207003

在线出版日期：2016-05-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：32-36