10.3969/j.issn.1000-5846.2007.04.015
ZnO基透明导电薄膜制备方法研究进展
ZnO基透明导电薄膜与掺锡氧化铟薄膜(ITO)相比,不仅性能与其相似,还具有ITO很多无法比拟的优点.因此,制备ZnO基透明导电薄膜成为当今研究热点.综述了ZnO基透明导电薄膜制备方法的研究进展,并对各自的优缺点进行了讨论.
透明导电薄膜、ZnO、制备方法、电阻率、透射率.
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TN304.055(半导体技术)
辽宁大学科研启动基金408041
2008-01-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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