10.3969/j.issn.1000-5846.2004.01.007
多孔硅的能带与发光机制的研究与分析
在光致发光技术对多孔硅光学性质研究的基础上讨论了与多孔硅的微观结构有关的多孔硅的能带结构,用能量赝势法模拟计算出多孔硅的能带间隙.
多孔硅、光致发光、量子限制模型、表面态、能量赝势法
31
O471.5(半导体物理学)
2004-03-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
20-22
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10.3969/j.issn.1000-5846.2004.01.007
多孔硅、光致发光、量子限制模型、表面态、能量赝势法
31
O471.5(半导体物理学)
2004-03-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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