氧氩比对磁控溅射ZnO薄膜结构及光致发光性能的影响
采用射频反应磁控溅射法以不同的氧氩比在玻璃衬底上制备了ZnO薄膜,并对薄膜进行了退火处理;利用X射线衍射仪（XRD）和原子力显微镜（AFM）分别对薄膜的物相组成和表面形貌进行了分析,利用荧光分光光度计对ZnO薄膜的室温光致发光（PL）谱进行了测试。结果表明：当氧氩气体积比为7∶5时,所制备的ZnO薄膜晶粒细小均匀,薄膜结晶质量最好;ZnO薄膜具有紫光、蓝光和绿光三个发光峰,随着氧氩比的增加,蓝光的发射强度增强,而紫光和绿光的发射强度先增强后减弱,当氧氩气体积比为7∶5时紫光和绿光的发射强度最强。
ZnO薄膜、射频反应磁控溅射、光致发光
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TB43(工业通用技术与设备)
国家“973”计划资助项目2008CB717802;安徽省自然科学基金资助项目090414182;11040606M63;安徽省高校自然科学基金资助项目KJ2009A091
2012-04-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
763-766
