X射线反射法分析ZnO基薄膜的厚度、密度和表面粗糙度

摘要：

采用X射线反射法(XRR)测试了在SiO2玻璃衬底上磁控溅射沉积的单层ZnO基薄膜的反射强度,得到了反射强度随掠入射角变化的曲线;讨论了薄膜厚度、密度和表面粗糙度与反射曲线的关系,最后通过拟合XRR曲线获得了所制备薄膜的厚度、密度和表面粗糙度分别为55.8 nm,5.5 g·cm-3和1.7 nm,与利用XRR数据直接计算出的薄膜厚度56.2 nm仅相差0.4 nm,表面粗糙度也与AFM测试的结果基本相符.可见XRR能无损伤、精确且快速地测试薄膜试样的厚度、密度和表面粗糙度等参数.

关键词：X射线反射、ZnO 基薄膜、薄膜参数、曲线拟合

所属期刊栏目：46

分类号：TG115.22(金属学与热处理)

资助基金：四川省教育厅重点资助项目08ZA009;西南科技大学博士基金资助项目08ZX0102

在线出版日期：2011-06-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：757-760