10.3969/j.issn.1001-4012.2008.02.001
TiAl合金表面等离子渗铬工艺
用双层辉光离子渗金属技术,在TiAl合金表面渗入铬元素,形成合金层.研究了温度、气压、源极电压、阴极电压等工艺参数对渗层成分、厚度及显微组织的影响.结果表明,在源极电压700 V、阴极电压450~280 V、极间距18 mm、试样温度1 050 ℃、工作气压25 Pa和保温时间4 h的工艺参数条件下,渗铬层厚度可达60 μm,渗层成分呈梯度分布,表面硬度明显提高.
TiAl合金、双层辉光、渗铬
44
TG156.8(金属学与热处理)
山西省留学基金2004-20
2008-05-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
57-60,70