10.3969/j.issn.1001-4012.2007.08.005
电沉积铜薄膜中的内应力与织构特征
利用X射线衍射方法分析了电沉积铜薄膜的内应力及其织构特征.结果表明,随薄膜厚度的增加,薄膜内应力增大.电沉积铜薄膜具有较强的(220)丝织构,随着铜薄膜内应力的增加,(220)丝织构增强,同时叠加有板织构的特征.
电沉积铜薄膜、X射线衍射、内应力、织构
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O484.2(固体物理学)
上海-应用材料科技合作基金0412
2007-10-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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