RF磁控溅射法制备ZnO薄膜的XRD分析

摘要：

采用RF磁控溅射法,在玻璃衬底上制备多晶ZnO薄膜,并对所制备的ZnO薄膜在空气气氛中进行了不同温度(350～600℃)的退火处理和600℃时N2气氛中的退火处理.利用X射线衍射分析了溅射参数如溅射功率、溅射氧分压、衬底温度以及退火处理对ZnO薄膜结晶性能的影响.结果表明,合适的衬底温度和退火处理能够提高ZnO薄膜的结晶质量.

关键词：ZnO薄膜、RF磁控溅射、XRD、退火处理、结晶性能

所属期刊栏目：42

分类号：TG115.23(金属学与热处理)

资助基金：合肥工业大学校科研和教改项目103-037016

在线出版日期：2006-03-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：19-22,39