10.3969/j.issn.1001-4012.2005.04.006
金属间化合物MoSi2的晶界侵蚀方法研究
对两种MoSi2材料试样进行了侵蚀试验.利用XJG-04型金相显微镜和扫描电子显微镜,研究了MoSi2侵蚀后的显微组织,并对其侵蚀结果进行了探讨.研究发现,MoSi2基材料具有晶间腐蚀敏感性,采用HF+HNO3+H2O作为其晶界侵蚀剂是可行的.
二硅化钼、晶界、侵蚀方法
41
TG115.2(金属学与热处理)
高校特色研究方向梯队资助项目
2005-05-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
181-183