制备参数对磁控溅射CoSi2薄膜织构的影响

摘要：

采用射频磁控溅射法溅射CoSi2合金靶材制备CoSi2薄膜,研究了制备参数对薄膜织构的影响.结果表明,CoSi2薄膜中存在(111)或(220)织构.织构的形成受溅射参数的影响.溅射功率越大,溅射气压越低,(111)织构越强烈.当基底温度增加时,织构经历了先增强后减弱的过程.

关键词：织构、CoSi2薄膜、X射线衍射、磁控溅射

所属期刊栏目：41

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：中国博士后科学基金50131030;上海市AM基金0211

在线出版日期：2005-05-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：163-165,190