邻苯三酚红修饰碳糊电极吸附伏安法测定痕量铜
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3321/j.issn:1001-4020.2001.02.003

邻苯三酚红修饰碳糊电极吸附伏安法测定痕量铜

引用
报道了采用邻苯三酚红修饰碳糊电极测定痕量铜的方法。通过在邻苯二甲酸氢钾-氢氧化钠(pH 4.5)介质中富集,Cu2+和邻苯三酚红形成络合物富集于电极表面,然后转换到0.050mol·L-1的H3PO4中,经阴极还原后再进行阳极溶出伏安法测定。Cu2+浓度在1.6×10-9~2.8×10-7mol·L-1范围内与二次导数峰电流呈线性关系,检出限达8×10-10mol·L-1。同时,对电极反应机理进行了探讨。应用于合金样的测定,取得满意的结果。

吸附伏安法、铜、邻苯三酚红、碳糊修饰电极

37

O657.14(分析化学)

湖南省教育厅科研项目98B007

2004-01-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

56-58

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

理化检验(化学分册)

1001-4020

31-1337/TB

37

2001,37(2)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn