10.3321/j.issn:1001-4020.2001.02.003
邻苯三酚红修饰碳糊电极吸附伏安法测定痕量铜
报道了采用邻苯三酚红修饰碳糊电极测定痕量铜的方法。通过在邻苯二甲酸氢钾-氢氧化钠(pH 4.5)介质中富集,Cu2+和邻苯三酚红形成络合物富集于电极表面,然后转换到0.050mol·L-1的H3PO4中,经阴极还原后再进行阳极溶出伏安法测定。Cu2+浓度在1.6×10-9~2.8×10-7mol·L-1范围内与二次导数峰电流呈线性关系,检出限达8×10-10mol·L-1。同时,对电极反应机理进行了探讨。应用于合金样的测定,取得满意的结果。
吸附伏安法、铜、邻苯三酚红、碳糊修饰电极
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O657.14(分析化学)
湖南省教育厅科研项目98B007
2004-01-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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56-58