丝裂霉素C和角膜水化对准分子激光上皮下原位磨镶术后角膜上皮下混浊的不同影响

摘要：

目的 比较分析准分子激光上皮下原位磨镶术(LASEK)中使用0.02%丝裂霉素C(MMC)和角膜水化两种不同方法对术后角膜上皮下混浊(Haze)形成的影响.方法 将接受LASEK手术的高度47例近视眼患者,术中对一眼在激光消融结束后角膜瓣下使用0.02%MMC,另一眼在切削1/2脉冲总量时,用低于20 ℃生理盐水冲洗(角膜水化),比较术后双眼角膜Haze发生情况.结果 MMC组和角膜水化组比较:发生角膜Haze的差异程度有统计学意义(P<0.01).结论 LASEK术中使用0.02%丝裂霉素C在抑制术后Haze形成中优于角膜水化.

关键词：准分子激光上皮下原位磨镶术、角膜上皮下混浊、丝裂霉素C、角膜水化

所属期刊栏目：21

分类号：R77;R81

在线出版日期：2013-12-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：458-460