DND@CeO2核壳型磨料的制备及其在蓝宝石表面的抛光机理研究

摘要：

采用原位化学沉淀法,将氧化铈(CeO2)包覆于爆轰纳米金刚石(DND)颗粒上,制得DND@CeO2复合磨料.复合磨料的最佳抛光工艺参数为:抛光压力4 kg、抛光盘转速120 r/min、抛光液流量70 mL/min、抛光液质量浓度1％、抛光液pH=10,此条件下复合磨料最大材料去除率可达73.26 nm/min,且抛光后的蓝宝石表面粗糙度可达4.47 nm,较CeO2(粗糙度17.21 nm)和DND磨料(粗糙度24.1 nm)更优.分析抛光机理可知,复合磨料抛光性能的改善归因于蓝宝石表面与CeO2发生了固相化学反应,形成较软的变质层,而DND可有效去除此反应层.

关键词：复合磨料、纳米金刚石、氧化铈、化学机械抛光、蓝宝石、抛光磨料

所属期刊栏目：41

分类号：TG732(刀具、磨料、磨具、夹具、模具和手工具)

资助基金：矿物材料及其应用湖南省重点实验室开放课题MMA201701

在线出版日期：2021-05-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：115-120