添加剂对氢氧化镍电位性能的影响

摘要：

通过对添加Co、Co+Zn、Co+Cd及不含添加剂的氢氧化镍样品进行粉末微电极循环伏安测试，研究了氢氧化镍的电位性能，并对这些样品进行物理形态结构测试，探索了添加剂对氢氧化镍物理形态结构及电位性能的影响。结果表明：在制备氢氧化镍时加入添加剂，氢氧化镍的颗粒小，BET比表面大，组成颗粒微晶小，微晶间孔隙丰富，XRD图谱中(001)晶面和(101)晶面衍射峰的半高宽(FWHM)值和d001值较大，结合水含量增多，这些结构上的变化有利于氢氧化镍充放电过程中质子扩散，从而改善其电位性能；单纯添加Co对改善氢氧化镍的充电电位性能效果较好，而同时加Co、Zn或Co、Cd可显著改善氢氧化镍的充放电电位性能。

关键词：氢氧化镍、添加剂、电位性能、微电极、循环伏安法

所属期刊栏目：21

分类号：TD(矿业工程)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：43-45