化学气相沉积法制备h-BN

摘要：

六方氮化硼是一种与石墨烯结构类似的二维层状宽带隙绝缘材料,具有各种优异的物理性质.例如,它具有优异的力学性质和化学、热稳定性,在非线性光学领域、紫外激光器以及保护层材料方面具有潜在的应用.另外,由于其表面具有原子级平整,不存在悬挂键和陷阱电荷,使其成为石墨烯电学器件的一种优异的介电材料.它还可与其他二维材料组成平面/垂直结构的异质结,展现出各种新奇的性能和在电子器件方面的潜在应用.如何可控制备大面积、高质量的六方氮化硼是目前研究的核心科学问题.本文主要综述了通过化学气相沉积法制备六方氮化硼的一系列工作,其中包括最新的研究进展,对反应前驱体和基底的选择做了详细的介绍和讨论,并展望了该领域的发展前景.

关键词：六方氮化硼、化学气相沉积法、可控生长、反应前驱物、基底

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资助基金：国家自然科学基金21633012,21273243,51233006和61390500;国家重点基础研究发展计划2016YFA0200101,2013CB933500,2013CBA01602;北京市科技计划Z161100002116025;中国科学院战略性先导科技专项B类项目XDB12030100

在线出版日期：2018-06-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共13页

页码：2195-2207