螺旋波等离子体合成SiON薄膜及其特性

摘要：

采用不同比例的N2/Ar螺旋波等离子体(HWP),对Si表面进行氮化处理合成SiON薄膜.X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)结果显示,SiON薄膜主要由Si-O-N和SiN键的两相结构组成.原子力显微镜结果表明氮化层光滑平整,薄膜表面粗糙度小于1.2 nm.水接触角的测量表明经过等离子体处理后样品表面疏水性能提高.放电过程中通过发射光谱采集了不同N2和Ar流量比放电时的光谱数据,研究了等离子体中的粒子与SiON薄膜结构之间的关系.

关键词：螺旋波等离子体、SiON、发射光谱、X射线光电子能谱、原子力显微镜

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资助基金：国家磁约束聚变项目2014GB106005,2010GB106000;国家自然科学基金11175126,11375126,11435009,11505123

在线出版日期：2018-06-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：2125-2131