10.3321/j.issn:0023-074X.2003.17.004
Fmoc保护氨基酸选择性结合金属离子以及质谱重排断裂机理
利用电喷雾电离质谱及串联质谱(ESI-MS/MS), 研究Fmoc保护氨基酸在正离子模式下质谱裂解规律. 正离子二级质谱实验中观察到C端羟基的迁移重排反应, 产生[Fmoc-OH+Na]+峰, 提出了可能的重排机理, 推测该重排反应与Fmoc基团、金属离子和金属离子的离子半径大小有关. 在气相条件下, Fmoc基团与羟基具有很强的结合能力.
Fmoc保护氨基酸、重排反应、电喷雾电离质谱、蛋白测序、多肽
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O6(化学)
清华大学校科研和教改项目092430018;高等学校优秀青年教师教学科研奖励计划;国家自然科学基金20272032,20320130046
2004-03-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
1836-1839