SmOx/Rh(100)模型表面的制备与性质

摘要：

应用Auger电子能谱(AES), X射线光电子能谱(XPS)和程序升温热脱附谱(TDS)研究了SmOx / Rh(100)模型表面的制备及CO在该表面的吸附. Sm和氧的强亲合作用引起了Sm在表面的强烈偏析. 氧化表面的高温热处理, 导致SmOx在Rh(100)表面的进一步聚集. 与120 K吸附在清洁Rh(100)表面的CO的热脱附谱相比较, 吸附在SmOx / Rh(100)表面的CO的热脱附谱中在176, 331和600 K出现了新的脱附峰. 其中位于176 K的脱附峰可归属于吸附在SmOx岛上的CO的脱附, 而位于331, 600 K的脱附峰的出现与表面Sm原子的氧化程度有关, 可分别归属为吸附在富氧和贫氧SmOx岛周边界面Rh原子上的CO的脱附.

关键词：Rh(100)表面、SmOx膜、CO吸附、AES LEED XPS TDS

所属期刊栏目：47

分类号：O64(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家自然科学基金29873042;催化基础重点实验室基金

在线出版日期：2004-03-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：415-417