用多孔氧化铝模板制备高度取向碳纳米管阵列膜的研究

摘要：

用多孔氧化铝(AAO)模板(孔径约250 nm,孔密度约5.3×108 cm-2,厚度约60 μm)进行化学气相沉积(CVD),成功地制备出大面积高度取向的碳纳米管有序阵列膜.用透射电子显微镜 (TEM)和扫描电子显微镜(SEM)观察了阵列膜的表面形貌和碳纳米管的结构.发现碳纳米管的长度和管径取决于AAO模板的厚度和孔径,碳纳米管的生长特性与模板的结构、催化剂颗粒、反应气体热解温度、流量比例以及沉积时间等因素有关.该方法工艺简便,可使碳纳米管的结构均匀一致,排列分立有序,形成一种有用的碳纳米管自组装有序阵列复合结构,且成本低,能实现大面积生长,非常利于碳纳米管基础与应用研究.

关键词：碳纳米管阵列、化学气相沉积(CVD)、阳极氧化铝模板

所属期刊栏目：45

分类号：O6(化学)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划69890220

在线出版日期：2004-03-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：493-497