10.3321/j.issn:0023-074X.1999.04.005
用作金刚石微电子和微机械器件的若干关键技术
针对金刚石薄膜用于微电子器件和微机械器件的共性关键技术问题,总结了近年来这些方面的研究成果,包括:用交流-直流负偏压微波等离子化学气相沉积(MPCVD)在绝缘SiO2衬底上实现金刚石高密度成核,高成核选择比的金刚石选择生长技术,铝掩模氧反应离子束刻蚀金刚石薄膜的图形化技术,以及与金刚石生长工艺兼容的牺牲层、绝缘层技术等.
金刚石、微电子、微机械、制备技术、高密度成核、图形化、牺牲层
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TM0(一般性问题)
国家攀登计划85-37
2004-03-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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