二甲基甲酰胺对高岭石插层的分子动力学模拟

摘要：

通过对高岭石-二甲基甲酰胺插层复合物随层间域中二甲基甲酰胺分子数逐渐增加的分子动力学模拟,发现高岭石层间距可被小分子的插层大幅度扩增,但需要借助外界条件克服插层能垒.通过对层间距为1.26 nm模型的界面结构和界面作用的计算,发现二甲基甲酰胺在高岭石层间域中呈单层分布.二甲基甲酰胺的分子平面斜交于层间域表面60°左右,其HC=O官能团的O原子作为质子受体与层间域铝氧面的羟基形成较强的氢键,而甲基则与硅氧面以疏水作用相结合.由于高岭石层间域的铝氧面具有反应活性较高的表面羟基,相比于硅氧面表现出对二甲基甲酰胺更强的亲和性.

关键词：高岭石、二甲基甲酰胺、插层、分子动力学模拟

所属期刊栏目：38

分类号：P579(矿物学)

资助基金：国家自然科学基金重点项目51034006;中国博士后科学基金资助项目2017M620956

在线出版日期：2019-04-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：387-392