10.13701/j.cnki.kqyxyj.2017.11.016
Qmix、MTAD与EDTA去除根管玷污层的实验观察
目的:扫描电镜下比较Qmix、EDTA与MTAD去除根管壁玷污层的效果.方法:选择40颗离体单根管下颌前磨牙,距根尖14 mm处截冠,采用S3镍钛锉预备到3S,将样本依照终末冲洗剂的不同随机分成4组:A组:5 mL 0.9%的生理盐水冲洗1 min(阴性对照);B组:5 mL 17%EDTA溶液冲洗1 min;C组:5 mL MTAD溶液冲洗1 min;D组:5 mL Qmix溶液冲洗1 min.根管预备完成后,将牙齿沿近远中向纵行分成两半,实验样本处理后在扫描电镜下观察根尖1/3(距根尖1~2 mm)、根中1/3(距根尖6~7 mm)、根上1/3(距根尖10~12 mm)处根管壁玷污层情况,并对数据进行统计学分析.结果:B、C、D组与A组(对照组)比较,差异具有统计学意义(P<0.001);两两比较后,D组分别优于B组、C组,C组优于B组,差异均有统计学意义(P<o.001);各组根上1/3优于根中1/3,根中1/3优于根尖1/3(P<0.05).结论:在本实验条件下提示:新型根管冲洗液Qmix能更有效地去除根管玷污层.
根管冲洗、玷污层、扫描电镜、根管预备、Qmix
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R780.2(口腔科学)
2018-01-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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