全口义齿上颌后牙区(牙合)堤位置对Piezography中性区印模影响的初步研究

摘要：

目的:初步探讨全口义齿上颌后牙区(牙合)堤颊舌向位置对下颌Piezography中性区印模颊舌向位置的影响.方法:在临床门诊选择无牙颌患者5例,设定2种全口义齿上颌后牙区(牙合)堤颊侧缘位置:1)与上颌基托颊侧缘在咬合平面投影线重合(B-0);2)位于上颌基托颊侧缘在咬合平面投影线偏舌侧3 mm(B-3).采用Piezography发音法制取下颌中性区印模,通过数字图像处理,测量印模(牙合)面磨牙区(M),磨牙与双尖牙交界区(MP),双尖牙区(P)及前牙正中部(AC)的唇颊舌向位置变化,并使用配对T检验进行统计学分析(显著性水平α=0.05).结果:在B-3条件下,MP和P的颊侧缘及颊舌中点的位置较B-0条件下的更偏向舌侧(P＜0.05),且更接近牙槽嵴顶,M和AC各部位的位置虽与B-0条件下的无显著差异,但存在偏向舌侧的倾向.结论:全口义齿上颌后牙区(牙合)堤偏向舌侧设定可引起下颌Piezography中性区印模颊侧缘同向偏移,有利于下颌人工牙排列更接近于牙槽嵴顶.

关键词：全口义齿、中性区、Piezography、图像测量

所属期刊栏目：29

分类号：R783.6(口腔科学)

资助基金：北京市自然科学基金资助项目编号:3123037基础临床科研合作基金与李桓英医学基金会联合资助课题11JL-L08

在线出版日期：2013-11-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：914-917