正交设计法优化电化学浸蚀形成钛合金表面微结构工艺

摘要：

目的:采用正交设计法,对电化学浸蚀形成钛合金表面微结构工艺参数进行优化.方法:先采用L9(33)正交实验对钛合金表面进行阳极浸蚀处理,HCl浓度(A)、HF浓度(B)、NH4F浓度(C)作为3个因素.上述方法获得表面再用L9(3 3)正交实验进行交流电化学浸蚀处理,HNO3浓度(X)、电压(Y)、蚀刻时间(Z)作为3个因素.结果:获得最优微米表面的条件是:HCl酸浓度:99 g/L、HF酸浓度:51 g/L、NH4F盐浓度15 g/L;获得最优亚微米孔表面的条件是:HNO3酸浓度:246 g/L、电压4V、蚀刻时间40 s.结论:影响微米表面主要因素是HF浓度,影响亚微米表面主要因素是电压.

关键词：正交设计、电化学浸蚀、钛合金、微米孔、亚微米孔

所属期刊栏目：28

分类号：R783.1(口腔科学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目基金号:81141063吉林省科技厅资助项目200905175

在线出版日期：2012-12-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：763-766