钴铬合金磁共振成像伪影范围的研究

摘要：

目的:研究钴铬修复体磁共振成像伪影范围.方法:组一制作5 mm×5 mm×1 mm钴铬合金,放置于T1序列中,比较钴铬与其他5种修复材料磁共振成像伪影大小.组二用钴铬合金制作中切牙、尖牙、第二前磨牙金属底冠、第一二磨牙金属冠,放置于T1序列中,观察磁共振伪影范围.结果:组一中钴铬合金成像伪影最大.组二中钴铬合金冠在上,下颌矢状面上,冠状面,横断面上伪影涉及层数分别为15、19、19、15、18、18.在横断面上显示的单颗牙成像,伪影平均高度是牙冠平均高度的8～10倍,宽度为4～5倍.结论:钴铬合金对磁共振影响最大,其修复体涉及扫描层数多.

关键词：钴铬合金、磁共振、伪影

所属期刊栏目：27

分类号：R783.2(口腔科学)

在线出版日期：2011-12-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：778-780