氧化锆底瓷与饰瓷结合力的实验评估

摘要：

目的:通过与钴铬合金-金属烤瓷结合力进行比较,对氧化锆底瓷-饰瓷结合力进行评估.方法:制作不同材料试件共5组,每组各10个试件.每个试件由长15 mm,直径8 mm的圆柱形底核与厚2 mm,直径8 mm的饰面构成.底核/饰面材料与分组如下:组1(对照组)钴铬合金/IPS d.SIGN烤瓷粉(Ivoclar);组2 IPS e.maxZir-Cad氧化锆瓷块/IPS e.maxZirPress专业氧化锆饰瓷(Ivoclar);组3 IPS e.maxZirCad氧化锆瓷块/IPS e.maxCe-ram牙本质磁粉(Ivoclar);组4 Lava Frame氧化锆瓷块(3M ESPE)/Lava Ceram磁粉(3M ESPE);组5 Lava Frame氧化锆瓷块(3M ESPE)/IPS e.maxCeram牙本质磁粉(Ivoclar).运用万能测试机对各试件进行剪切试验,剪切速度参数设定为0.50 mm/min.实验所得结果采用SPSS18.0软件进行ANOVA单因素方差分析和LSD多重检验.结果:组1:13.87MPa,组2:13.10MPa,组3:10.97MPa,组4:12.72MPa,组5:4.77MPa.结论:氧化锆底瓷-饰瓷结合力可与钴铬合金-金属烤瓷结合力相近,热压铸塑较粉浆涂塑工艺制备的饰瓷与底瓷结合力更高,底瓷与饰瓷分别来源于不同产家时结合力最弱.

关键词：氧化锆、瓷材料、剪切试验、结合力

所属期刊栏目：27

分类号：R783.1(口腔科学)

在线出版日期：2011-09-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：471-475