人工龋形成的电化学机理研究

摘要：

目的:研究人工龋形成的电化学腐蚀机理.方法:采用循环伏安法、失重法观察牙片在K2SO4溶液中的氧化还原行为及在KCl和K2SO4介质中恒电位腐蚀情况,并监测电解液氢离子浓度的变化情况.结果:在0.0V～2.5V电位范围内,牙片电极与石墨电极具有波形相似的循环伏安曲线;在KCl和K2SO4介质中牙片的腐蚀速度无显著差异;2.0V恒电位腐蚀牙片8h后, 阳极池本体溶液pH值为3.87,阴极池pH值为10.65.结论:在外电场作用下,牙片的阳极腐蚀与介质无关;电化学人工龋形成的主要决定因素是牙齿发生酸溶.

关键词：龋齿、腐蚀、电化学

所属期刊栏目：19

分类号：R781.1(口腔科学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：196-198