种植体材料钛与种植体上部结构合金问电偶腐蚀性能的研究

摘要：

目的 评价TA2型商业纯钛分别与金合金、钴铬合金、钛合金及镍铬合金在体外的电偶腐蚀行为.方法 在人工唾液中体外模拟TA2型商业纯钛分别与金合金、钴铬合金、钛合金及镍铬合金接触时的回路,测量其15 h的混合电位和电偶电流值并描绘电流时间曲线.结果 四组合金接触8 h后电流达到稳定,稳定后电偶电流值排列顺序为Ti/Au<Ti/CoCr<Ti/Ti合金<Ti/NiCr.结论 Ti/Au组电偶腐蚀最小,金合金是最适合的种植义齿上部结构的材料;Tx/NiCr组电偶腐蚀最大,NiCr合金是最不利的种植义齿上部结构的材料.

关键词：骨内钛种植体、电偶腐蚀、钛、牙科合金

所属期刊栏目：28

分类号：R783.1(口腔科学)

资助基金：南京医科大学科技发展基金项目07NMUU050

在线出版日期：2008-07-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：195-197