二次烧结温度对牙科纳米氧化锆陶瓷抗弯强度影响的实验研究
目的 研究二次烧结温度对纳米氧化锆陶瓷强度的影响.方法 经初步烧结的氧化锆瓷块,在不同温度下进行第二次烧结,检测三点抗弯强度,X线衍射分析晶相,扫描电镜下观察试件的微观结构.结果 当第二次烧结温度为1 325℃时,材料的三点抗弯强度最高,达到(932±63)MPa.陶瓷主晶相为四方相,晶体大小均匀,排列紧密.结论 经二次烧结的氧化锆瓷块具有足够的抗弯强度,能够满足口腔全瓷修复材料的要求.
陶瓷、氧化锆、抗弯强度
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R783.1(口腔科学)
上海市科委资助项目03JC14053
2008-05-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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70-71,77