氮化硅陶瓷连接的研究进展

摘要：

氮化硅陶瓷以其优良的抗弯强度、抗腐蚀、抗热震、抗氧化和尺寸稳定等性能,在航空航天、能源、冶金和半导体等领域表现出巨大的应用潜力和市场前景.然而,加工性差、界面难润湿等特点极大阻碍了氮化硅陶瓷的应用.为此,人们不断探索研究氮化硅陶瓷的连接,以期通过可靠的连接方法促进其应用发展与突破.本文综述了近年来氮化硅陶瓷连接的研究进展,指出当下氮化硅陶瓷连接的研究主要集中在调控界面结构和控制界面应力以提高连接强度,其中根据Si3N4陶瓷的特点,评述例举了固相扩散、部分瞬间液相扩散、金属钎焊和玻璃钎焊等方法在氮化硅陶瓷接头界面结构调控方面的研究进展,归纳总结了氮化硅陶瓷接头界面应力控制的研究现状,最后展望了今后氮化硅陶瓷连接的研究重点与方向,旨在为氮化硅陶瓷连接的研究提供参考.

关键词：氮化硅陶瓷、扩散连接、钎焊、界面结构、界面应力、连接强度

所属期刊栏目：48

分类号：TQ174.758.12

资助基金：国家自然科学基金;云南省科技人才与平台计划项目

在线出版日期：2023-11-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共13页

页码：16-27,119