氧压浸出提纯冶金级硅过程中添加剂对除杂效果的影响

摘要：

研究了氧压浸出提纯冶金级硅过程中添加剂(硫酸铵)及原料粒度对去除金属杂质Fe、Al、Ca、Ti的影响.研究结果表明,添加剂硫酸铵的加入能够有效提高冶金硅中主要金属杂质的去除率,低压(无氧)条件下浸出,金属杂质Fe、Al、Ca、Ti的去除率比常压浸出分别高出4.6％、17.3％、16.6％及0.5％；氧压浸出又比低压(无氧)浸出的去除率分别高出22.2％、34.9％、19.5％及0.6％,且随着氧分压的升高,除Ti外Fe、Al、Ca的去除率明显提高；氧压条件下加入添加剂硫酸铵后,金属杂质Fe、Al、Ca、Ti的去除效果更为显著,分别达到85.1％、80.6％、95.4％和16.3％.硅粉粒径＜75 μm后对金属杂质的去除率的影响不明显.此外,对比浸出前后的SEM-EDS结果发现,常压浸出时硅中的Si-Fe-Ti杂质相难以去除,在氧压浸出并加入添加剂时,可部分去除.

关键词：冶金级硅、提纯、氧压浸出、添加剂

所属期刊栏目：33

分类号：TF114(冶金技术)

资助基金：the National Natural Science Foundation of China51064014;the province Natural Science Foundation of Yunnan2010CD025

在线出版日期：2013-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1-5