SiCl4锌还原异相反应机理的研究

摘要：

通过MP2/6-311G(d,p)方法,计算并得到了SiCl4锌还原各反应通道上各驻点的几何构型、振动频率和能量.根据密度泛函理论,采用广义密度梯度近似和总体能量平面波赝势方法结合周期性平板模型,研究了反应驻点在Si(l00)面上的吸附、解离及锌还原过程.结果表明,衬底硅参与SiCl4锌还原反应,SiCl4易在顶位吸附解离成SiCl3扣Cl；当硅基表面有Cl自由基吸附时,Zn或ZnCl更倾向于与Cl结合,而不是还原SiCln(1～3).

关键词：多晶硅、密度泛函理论、锌还原、反应机理

所属期刊栏目：37

分类号：O641(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目50074019

在线出版日期：2013-06-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：13-18