磁控溅射Al/Pb纳米多层膜调制结构研究

摘要：

用磁控交替沉积制备Al/Pb纳米多层膜,运用XPS,AFM,TEM考察表面状况及膜结构.结果表明,实验条件下,当Al层厚60 nm时,Pb子层标定厚度从20 nm增至30 nm,可形成较完整埋层调制结构.随Pb层厚度增加,连续性变好、表面糙度降低,Al层对Pb层表面糙度克服能力提高,改善层状结构完整性.多层膜中Al,Pb子层均存在(111)择优取向特征,由fcc结构的表面自由能最小化引起.

关键词：纳米多层膜、调制结构、表面粗糙度、磁控溅射

所属期刊栏目：35

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：云南省自然科学基金重点资助项目2004E0004Z;云南省自然科学基金资助项目2006E0018Q

在线出版日期：2010-05-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：38-41,78