10.13774/j.cnki.kjtb.2020.04.004
硅活性构型的研究
从硅晶面角度,对面间距、面密度和键密度性能进行研究,发现通过暴露面密度最大面,可提升制粉后硅反应活性.决定硅反应活性的主要因素是原子态势;不同处理方法得到的硅粉活性不同,强弱顺序为:对撞—冲旋—研磨.以磨粉达到生产指标为基准,改用相对活性较好的冲旋粉,可使氯化氢耗量增加,生产出更多三氯氢硅中间体.
构型、硅粉活性、微观结构、原子态势
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P541(构造地质学)
浙江省公益技术应用研究分析测试基金项目2017C37099
2020-08-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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