10.3969/j.issn.1673-8578.2014.z1.029
“光刻机”的概念、技术及其在专利文献中的分布
光刻机技术是大规模集成电路制造领域中的核心技术。文章介绍了光刻机的概念、结构及其简要技术发展历程,并列举和解释了光刻机技术领域的重点技术术语,此外,针对光刻机技术的专利文献查新检索,总结了光刻机技术在专利文献分类中的分布情况。
光刻、光刻机、专利、IPC分类
N04;TN4;TN30S(术语规范及交流)
2014-11-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
75-76,82