10.3969/j.issn.1674-7135.2016.03.012
基于130 nm CMOS工艺抗单粒子翻转和单粒子瞬态加固技术研究
在空间辐射环境下,CMOS集成电路易受到单粒子翻转和单粒子瞬态的影响,可导致器件功能异常。文章首先分析了几种典型的加固技术,并从触发器的电路结构和物理版图出发,提出了一种基于130nm CMOS工艺抗单粒子翻转和单粒子瞬态脉冲的触发器单元加固设计方法。并结合设计方法,实现了抗辐射加固触发器的设计,通过仿真分析验证了设计的正确性。
触发器、单粒子翻转、单粒子瞬态、抗辐射加固
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TP2;TQ5
2016-09-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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