蛭石的结构修饰及有机插层试验

摘要：

用酸处理+热处理+钠化综合法,对蛭石进行了结构修饰改性,得到具有低剩余层电荷的改性蛭石.用十六烷基三甲基溴化铵(HDTMAB)对改性蛭石进行了有机插层试验,并与未改性蛭石原样的插层试验进行对比,以研究结构修饰及剩余层电荷变化对其有机插层的影响.结果表明,由于剩余层电荷的降低,十六烷基三甲基溴化铵在改性蛭石层间的插层量和排列方式与在蛭石原样中不同,当HDTMAB用量小于5倍数CEC时,进入层间域的HDTMAB数量少,呈倾角较小的单层倾斜排列,蛭石层间距小,有序度低;当HDTMAB用量等于5.0倍CEC时,HDTMAB在蛭石层间以双层倾斜方式排列,层间距与有机插层蛭石原样相当;当HDTMAB用量达到10.0倍CEC时,蛭石层间以双层倾斜排列的HDTMAB倾角增大,层间距较同样条件下插层的蛭石原样更大,而且大部分蛭石已层剥离.因此,结构修饰有利于制备聚合物/蛭石纳米复合材料.

关键词：蛭石、结构修饰、改性、有机插层

分类号：TB332;P578.963(工程材料学)

资助基金：国家重点实验室基金SKLEP0065;中国地质大学北京校科研和教改项目

在线出版日期：2005-05-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：17-21