10.3969/j.issn.1673-9787.2010.04.022
TiN薄膜的制备及其纳米力学性能研究
采用磁控溅射工艺制备了TiN薄膜,借助X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)和纳米压痕仪(nano-indentation)等,研究了薄膜的相结构、表面微观形貌、纳米硬度、弹性模量等,讨论了薄膜制备工艺参数,如基体温度、溅射功率、基体负偏压等的影响.结果表明,Ti N薄膜为多晶态,溅射功率、基体负偏压和基体温度等条件对薄膜的形貌、结构及纳米硬度、弹性模量等的影响比较复杂.
磁控溅射、氮化钛、薄膜
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TG178(金属学与热处理)
国家自然科学基金资助项目50875053
2010-10-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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538-542