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10.3969/j.issn.1006-4311.2012.31.015

氧化铟锡薄膜熔化阈值的研究

引用
太阳能电池薄膜在平板显示器的生产中得到大量应用.而这其中Indium Tin Oxide(ITO)薄膜是应用最广的透明半导体薄膜之一.本文主要针对ITO薄膜在超短波激光烧蚀下的熔化规律进行研究.论文通过一系列激光实验,目的在于找出ITO薄膜在远红外激光下熔化现象的基本物理机制和熔蚀过程.经过实验,找出了在不同激光能量密度下,熔化阈值能量密度和熔化率,以及薄膜厚度与阈值能量密度之间的关系.

太阳能电池、ITO薄膜、激光直写技术、超短波激光烧蚀、阈值能量密度

31

TH11

2013-01-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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1006-4311

13-1085/N

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2012,31(31)

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