钠铁硅系统玻璃形成区和磁化率的研究

摘要：

研究了钠铁硅系统玻璃的形成区和磁化率.结果证明:(1)在一定实验条件下,钠铁硅系统玻璃形成区的范围是:x(Na2O)=0～52%;x(Fe2O3)=0～20%;x(SiO2)=48%～1 00%.(2)钠铁硅系统玻璃的磁化率不仅与Fe2O3的含量有关,而且与Fe3+在玻璃中的结构地位有关.当Fe3+处于四配位状态时,Fe3+的3d电子处于弱场高自旋状态,对磁化率的贡献就较大;当Fe3+处于六配位状态时,Fe3+的3d电子处于强场低自旋状态,对磁化率的贡献就较小.(3)磁化率的转折点位于x(Fe2O3)=6%附近.

关键词：钠铁硅系统玻璃、玻璃形成区、磁化率

所属期刊栏目：4

分类号：TQ171.1+12

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：289-293