表面活性剂处理炭疽杆菌的原子力显微镜研究

摘要：

利用AFM观察经表面活性剂处理的炭疽杆菌繁殖体形态,研究不同表面活性剂对细菌的作用.用同一浓度的非离子型表面活性剂NP-40、Span-20、Span-80、Igepal CA-210、Igepal CA-520、Igepal CA-630,对完整的炭疽杆菌菌株进行处理,经AFM成像,观察不同表面活性剂对菌体形态的破坏程度.结果不同的表面活性剂对菌体破坏程度不一,但菌体形态均被破坏,表面形态变得不规则,菌体内部物质不均匀分布.表面活性剂作用后的炭疽杆菌微观形貌与正常菌体相比,因表面活性剂亲水亲油平衡值(HLB)不同而不同,随着HLB值的增加,菌体的破坏程度和表面粗糙度也在增加.本实验为研究炭疽杆菌对不同试剂的抗性提供了形态学方面的基础,也为不同表面活性剂作为消毒剂方面的研究提供了形态学基础,可提供一种较为温和的细菌裂解条件.

关键词：原子力显微镜、炭疽杆菌、表面活性剂

所属期刊栏目：19

分类号：TQ423

资助基金：国家863项目2006AA022419;国家自然科学基金项目30500455;质检总局科研项目20071K211

在线出版日期：2009-07-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：4-9