基体偏压对Cr/DLC薄膜结构及力学性能的影响

摘要：

采用高功率脉冲磁控溅射方法在不同基体偏压下的钢基体上沉积含Cr过渡层的DLC薄膜.利用原子力显微镜、场发射扫描电镜、Raman光谱、动态超显微硬度计和划痕仪对薄膜的表面形貌、截面形貌、结构成分、力学性能进行表征.结果表明:随着基体偏压的增大,薄膜表面更加平整,表面粗糙度减小;不同基体偏压下制备的DLC薄膜与基体结合良好,厚度均匀,结构致密;Raman结果显示,ID/IG值随基体偏压的增大不断下降,薄膜中sp3含量逐渐增加;当基体偏压增大时,薄膜硬度和弹性模量均呈上升趋势,膜基结合强度增加.

关键词：DLC;磁控溅射;基体偏压;表面粗糙度;硬度;结合力

所属期刊栏目：51

分类号：TH161+.14

资助基金：国家自然科学基金51575269

在线出版日期：2022-03-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：7-10