10.3969/j.issn.1007-4414.2008.02.038
磁流变抛光磁路的结构设计及有限元仿真
合理的磁路结构及磁场强度是决定磁流变抛光效果的关键所在.根据磁流变抛光要求设计了电磁铁磁路结构,建立了磁路结构和磁场强度分析模型.通过静态磁路理论和标量磁位分析,获得了相应磁路结构的磁场强度分布状况,并采用有限元分析软件ANSYS进行仿真,进而验证了磁路结构对磁流变抛光工艺的适应性和有效性.
磁流变抛光、结构设计、磁场强度、有限元仿真
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TG580.692;O441(金属切削加工及机床)
2008-06-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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