10.3969/j.issn.1001-2257.2016.07.002
提拉法涂胶膜厚均匀性研究
针对提拉法涂胶工艺中膜厚的均匀性较难控制,影响因素很多的情况。利用流体计算软件Fluent对提拉法涂胶的整个提拉过程进行仿真,同时结合提拉法涂胶实验,探究影响液膜均匀性的2个重要因素:提拉速度和静置时间。仿真结果和实验结果均表明,提拉速度越大,液膜均匀性越差;圆柱基底放入烘箱前,在空气中放置时间越短,膜厚均匀性越好。这对优化提拉法涂胶工艺,提升膜厚均匀性均有重要的意义。
提拉法涂胶、液膜均匀性、数值仿真
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TN305.2(半导体技术)
国家自然科学基金50905173
2016-08-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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