化学镀制备激光ICF磁性PS靶材的研究

摘要：

为了制备可以在磁场中悬浮的ICF靶丸材料,采用化学镀法对PS微球包覆Ni-P合金磁性镀层,并用正交实验确定了最佳工艺条件.采用XRD、SEM、DSC、VSM分析了镀层结构、形貌以及磁性.结果表明,Ni-P镀层在PS微球表面沉积均匀,表面光滑;微球的饱和磁化强度为2.130 A/m,所具有的磁性可使其在磁场中悬浮;化学镀Ni-P合金层最佳工艺条件为:ρ(NiSO4·6H2O)=40 g/L,ρ(NaH2PO2)=25 g/L,ρ(柠檬酸钠)=50 g/L,pH=10,温度为40℃.

关键词：惯性约束聚变(ICF)、靶丸材料:化学镀、Ni-P磁性镀层、饱和磁化强度、功能材料

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分类号：TL639.11(受控热核反应（聚变反应理论及实验装置）)

资助基金：国家自然科学基金-中国工程物理研究院NSAF联合基金10376030

在线出版日期：2007-07-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：531-534