10.3969/j.issn.1003-773X.2003.01.008
磁控溅射沉积氧化锌薄膜的原子力显微镜研究
用扫描原子力显微镜(AFM)研究了射频磁控溅射工艺参数(功率、放电气体压力、氧气分压强等)对ZnO透明导电薄膜微结构的影响.
原子力显微镜、ZnO薄膜、工艺参数、射频磁控溅射
TN16(真空电子技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共2页
15-16
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10.3969/j.issn.1003-773X.2003.01.008
原子力显微镜、ZnO薄膜、工艺参数、射频磁控溅射
TN16(真空电子技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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