基于摩擦诱导选择性刻蚀原理的单晶硅表面大面积织构加工

摘要：

信息、生物、先进制造、航天航空等高科技领域的飞速发展对微/纳加工技术及工艺提出了全新的、苛刻的要求，亟待发展创新的微纳加工方法。基于摩擦诱导微纳米加工方法，利用自制的多点接触微纳米加工设备，在单晶硅表面制备了各种大面积织构，并研究了织构形状和间距对表面接触角的影响规律。结果表明，单晶硅表面织构的线间距越小，表面接触角越大；“#”型织构相对于线性织构表现出更好的疏水性能，最大可使单晶硅表面的接触角增大145%。此外，利用摩擦诱导加工方法获得的表面织构具有良好的稳定性。放置一个月后，单晶硅表面织构的接触角测量结果与新鲜制备样品的测量结果相比没有明显变化。因此，摩擦诱导选择性刻蚀提供了一种实现单晶硅表面大面积功能织构加工的新方法。

关键词：摩擦诱导选择性刻蚀、大面积加工、表面织构、疏水性、单晶硅

分类号：TH117

资助基金：国家自然科学基金资助项目91323103，51375409。

在线出版日期：2014-09-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：93-98